ForschungSelbstorganisation von BlockcopolymerenVerwendung für lithographische Masken, Membranen und andere FunktionalitätenNanoimprint-LithographieMaterialien als Strukturgeber für die Softlithographie im sub-µm RegimeGISAXS OberflächencharakterisierungMethodische und apparative Weiterentwicklung, Simulationen und BerechnungenSAXS Strukturuntersuchungen und Analyseverfahren